減圧乾燥炉
仮乾燥炉
近赤外線オーブン
FPD装置
実績
熱評価事例
アクセス
品質・環境への取組
工場外観:280u
   
前室:55u クリーンルーム:170u
主な実験内容

・大気中と真空中での乾燥比較検証

・低酸素雰囲気でのプロセス検証実験

・塗布後のピンムラ確認

・近赤外線による急速昇温実験
1300×1500基板対応減圧乾燥炉  
   
650×830対応仮乾燥炉 200×200対応近赤外線ランプオーブン
  項目 内容
1 装置全体寸法 2160×3255×1671H
2 重量 4000kg
3 最高真空度 5pa
4 使用真空ポンプ 荏原製ドライ真空ポンプESA500W
5 減圧レート 大気圧⇒100paまで約17sec
6 使用可能時間 約8H
7 可能ワークサイズmax 1300×1500
8 支持ピン先端 樹脂系ピン
9 リフトピン先端 セラミック製 Φ1
10 チャンバ内有効高さ HP+90mm
11 真空到達調整機構 コントロールバルブ有(VAT製)
12 シャッタ 片側1か所有
13 メンテナンス引出 片側1か所有
装置全体(真空ポンプ側)  
 
シャッタ部 メンテナンス引出
  項目 内容
1 対応基板サイズ 650×830(MAX)
2 使用ヒータ ホットプレート
3 ヒータ容量 200V 6KW
4 最高使用温度 150℃
5 基板動作 搖動動作可能
6 シャッタ 片側一か所(手動)
7 使用雰囲気 大気
装置全体(真空ポンプ側)  
   
 
HP部詳細  
  項目 内容
1 対応基板サイズ 200×200(MAX)
2 使用ヒータ

ハロゲンランプヒータ

3 ヒータ容量 235V 2500W×3本
4 最高使用温度 ワーク温度約700℃
5 連続使用可能時間 約1〜2min
6 可能ワークサイズ 100×100(200×200要改造)
7 使用雰囲気 大気・真空(要改造)

装置全体

 
   
メンテナンス扉開時 ワーク測定位置